拋光墊在研磨拋光中的作用

拋光墊作為CMP系統(tǒng)的重要組成部分,其性能直接影響CMP過程及拋光效果"拋光

墊的主要作用:

(1)能夠協(xié)助拋光液在拋光過程中,有效均勻的運(yùn)送拋光液到拋光墊的不同區(qū)域,

并且能夠提供新補(bǔ)充的拋光液進(jìn)行一個(gè)拋光液的循環(huán)"

(2)順利將舊的拋光液及拋光后的反應(yīng)物!碎屑等排出"

(3)維持拋光墊涵養(yǎng)拋光液時(shí),在拋光墊表面所形成的薄膜的厚度,此厚度對拋

光速率將會(huì)有顯著的影響"

(4)拋光墊必須對拋光液具有良好保持性"加工時(shí)拋光墊必須涵養(yǎng)足夠的拋光液,

才可以使CMP中的機(jī)械與化學(xué)反應(yīng)充分的作用"

(5)為了控制拋光過程的穩(wěn)定!均勻性與再現(xiàn)性,拋光墊的材料物理性質(zhì)!化學(xué)

性質(zhì)及表面形貌等特性,都需要保持穩(wěn)定"